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新型集成隱埋齊納二極管的研制及穩(wěn)定性研究

微電子學(xué) 頁數(shù): 7 2024-10-15
摘要: 介紹了一種采用40 V高壓雙極工藝制作的新型集成隱埋齊納二極管的穩(wěn)定性研究。這種新型隱埋齊納二極管擊穿電壓值可調(diào),齊納擊穿區(qū)避開表面,隱埋在硅體內(nèi),且內(nèi)阻小、噪聲低。首先分析了40 V高壓雙極工藝現(xiàn)有的次表面集成齊納二極管長期穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性不足的原因,接著介紹了新型集成隱埋齊納二級管的工作機(jī)理。對新型集成隱埋齊納二極管開展了老化試驗(yàn),通過分析試驗(yàn)數(shù)據(jù)驗(yàn)證了新型集成隱埋齊納管結(jié)... (共7頁)

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