納米復相陶瓷Si C/(Hf_xTa_(1–x))C/C的制備、微結(jié)構(gòu)演變及力學性能

摘要： 采用聚合物先驅(qū)體轉(zhuǎn)化法結(jié)合放電等離子燒結(jié)技術(shù)，制備出近致密的Si C/(Hf_xTa_(1–x))C/C納米復相材料。通過X射線衍射儀、透射電子顯微鏡、掃描電子顯微鏡，納米壓痕儀對Si C/(Hf_xTa_(1–x))C/C納米復相陶瓷的微結(jié)構(gòu)演變及其力學性能進行了表征。結(jié)果表明，通過對單源聚合物先驅(qū)體進行分子設(shè)計，改變SSP中的Hf/Ta比例，可以控制最終固溶(Hf_xTa_... （共10頁）