光學(xué)元件磁流變加工不確定度誤差工藝方法

摘要： 為減少磁流變拋光過程中誤差對加工精度的影響，實現(xiàn)光學(xué)元件磁流變高精度加工，采用一種不確定度誤差工藝方法對加工中的誤差進行抑制。通過對磁流變加工過程中的位置誤差和去除函數(shù)誤差進行不確定度分析，在理論分析與實驗分析的基礎(chǔ)上進行驗證實驗。由仿真與實驗結(jié)果可知，加工中面形誤差與中頻誤差均存在3.5 nm的不確定度誤差值，通過驗證實驗，得到了加工后的面形誤差RMS值為20 nm，中頻誤差... （共10頁）