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 指機器設備本身因素所產生的偽影。1.化學位移偽影指原子核因所處的分子環(huán)境不同,質子共振頻率出現(xiàn)差異而形成的圖像失真,稱為化學位移偽影。高場強MR機器比低場強MR機器化學位移偽影顯著,常發(fā)生在脂質含量差異較大的兩種組 (共 381 字) [閱讀本文] >>