近場(chǎng)光學(xué)

傳統(tǒng)的光學(xué)理論，如幾何光學(xué)、物理光學(xué)等，通常只研究遠(yuǎn)離光源或者遠(yuǎn)離物體的光場(chǎng)分布，一般統(tǒng)稱為遠(yuǎn)場(chǎng)光學(xué)。遠(yuǎn)場(chǎng)光學(xué)在原理上存在著一個(gè)遠(yuǎn)場(chǎng)衍射極限，限制了利用遠(yuǎn)場(chǎng)光學(xué)原理進(jìn)行顯微和其它光學(xué)應(yīng)用時(shí)的最小分辨尺寸和最小標(biāo)記尺寸。而近場(chǎng)光學(xué)則研究距離光源或物體一個(gè)波長(zhǎng)范圍內(nèi)的光場(chǎng)分布。在近場(chǎng)光學(xué)研究領(lǐng)域，遠(yuǎn)場(chǎng)衍射極限被打破，分辨率極限在原理上不再受到任何限制，可以無限地小，從而基于近場(chǎng)光學(xué)原理可以提高顯微成像與其它光學(xué)應(yīng)用時(shí)的光學(xué)分辨率。

基于近場(chǎng)光學(xué)技術(shù)的光學(xué)分辨率可以達(dá)到納米量級(jí)，突破了傳統(tǒng)光學(xué)的分辨率衍射極限，這將為科學(xué)研究的諸多領(lǐng)域，尤其是納米科技的發(fā)展提供有力的操作、測(cè)量方法和儀器系統(tǒng)。目前，基于隱失場(chǎng)探測(cè)的近場(chǎng)掃描光學(xué)顯微鏡、近場(chǎng)光譜儀已經(jīng)在物理、生物、化學(xué)、材料科學(xué)等領(lǐng)域中得到應(yīng)用，并且應(yīng)用范圍正在不斷地?cái)U(kuò)大；而基于近場(chǎng)光學(xué)的其它應(yīng)用，如納米光刻和超高密度近場(chǎng)光存儲(chǔ)、納米光學(xué)元器件、納米尺度粒子的捕獲與操縱等等，也吸引了眾多科學(xué)工作者的注意。